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等離子清洗機里面各種氣體的清洗作用
因為等離子清洗處理的材料不一樣，要求也不同，對于處理每一種工藝，都會選擇對應的氣體，并且根據清洗的程度，調整輸入氣體的比例，清洗的停留時間等參數。目前等離子清洗機里面常用的氣體有空氣、氧氣、氬氣、氫氣、氬氫混合氣體、cf4等。每一種氣體的特性都不一樣，清洗帶來的效果也不相同。有的還會選用混合氣體，即把多種氣體混合在一起使用，以達到最好的清洗效果。
那這些清洗工藝氣體都是怎么配比的呢？這個其實是很大公司的秘密，每個公司都會有自己的一套清洗工藝，然后去調整測試的，今天我給大家講的是各種氣體的特性，讓大家對于等離子清洗機的各種氣體有一個了解。
氫氣的主要作用是用來的金屬表面的氧化物做清理，其清洗的過程其實是化學還原反應，氫氣離子和金屬表面的氧氣離子化學反應變成水氣。
氧氣離子是用來清洗材料表面的有機化合物，通過對有機化合物的氧化發生反應達到清洗的目的。氬、氦、氮等非反應氣體。氮處理可提高材料的硬度和耐磨性。氬和氦氣體特性平穩，分子的充放電工作電壓低非常容易產生亞穩態分子，一方面，運用其高能粒子的物理學功效來清理易被氧化或還原物件。
Ar+轟擊污物產生揮發物化學物質污染物會從真空泵抽離出來，以防止表層化學物質的反應。氬非常容易產生亞穩態分子，與氧原子撞擊時產生正電荷變換和再重組。在plasma清洗設備中應用純氫是效率很高的，但考慮到了充放電的可靠性和安全系數，在等離子清洗設備中也可以應用氬氫化合物。此外，還可以采用反向氧氣和氬氫氣的清洗順序，這種清洗機具有易氧化、易還原的特點。
1)氬氣：物理學轟擊表面是氬氣清理的原理。氬是有效的物理學plasma清理氣體，因為它的原子大小，能用非常大的能量打中產品表層。正氬正離子會被負極板吸引住，撞擊力得以除去表層的一切污漬。隨后這種氣體污染物會隨著泵排出。
2)氧氣：與產品表層化學物質是有機化學反應。比如，氧能夠合理地除去有機化學污染物，與污染物產生反應，形成二氧化碳、一氧化碳和水。一般來說，化學反應很容易除去有機污染物。
3)氫氣：氫可用以除去金屬表層氧化物。它常常與氬混合以提升去污能力。大家廣泛關心氫的易燃性性和氫氣儲存使用問題，我們可以用氫產生器從水里造成氫。除去潛在性的傷害。
4)cf4/sf6：氟化氣體主要是用來線路板上面的，通過化學反應將氧化物轉換為氯化物，用在半導體材料和pcb（印刷線路板）等工業生產
